ITO膜卷繞式真空磁控鍍膜（mó）機_電子束卷繞鍍膜機_卷對卷離子鍍膜設備

卷（juàn）繞式鍍膜設（shè）備（bèi） - ITO膜卷繞式真空磁控鍍膜機

羞羞视频网站科（kē）技生產的卷（juàn）繞式真空鍍膜設備具有（yǒu）高真空獲得能力,能夠進行PET、PI等柔（róu）性薄膜材料的高精度往複卷繞傳（chuán）輸,通過人機對話（huà）的形式來實現係統的工作數據顯示、操作與（yǔ）控（kòng）製,以實現真空係（xì）統的全（quán）自動預熱操作,抽氣和冷泵作業、紅外線加熱等。

設備特點：

本設備對柔性基體（tǐ）材（cái）料（liào）傳動（dòng）主輥（gǔn）、收卷輥、放卷輥的驅（qū）動裝置采用司服電機進行調速,配合其張力傳感器、來實現薄膜傳輸過程中收放卷卷繞的恒張（zhāng）力自動控製。

本設備的鍍膜主輥配備了-套快（kuài）速高效的真空鍍膜專用加熱裝置（zhì）,該裝置用於在進行真空鍍膜操作時將（jiāng）鍍膜主輥表麵加熱至鍍膜工藝要求的（de）溫度,用以加熱被鍍的基體材料。

本設備在真空工作（zuò）室內裝有一套大麵積的低溫冷凍盤管,利（lì）用進口低（dī）溫深冷係統（tǒng）以抽除真空室水汽。

主機含一套離子源（yuán）係統,對膜層進行改性處理,含（hán）水冷和充氣係統,均勻（yún）性高。

可根據工（gōng）藝要求配置MF孿和DC陰極係統。

真空室的結構為一臥式半圓柱形簡體,真空室整體采用304不鏽鋼製造。

真空室正/反麵各配有矩形觀察窗1個,用以觀察（chá）基體材料卷繞以及鍍膜效果;側麵配有圓形觀察窗可以輔助觀察基體材料開卷及鍍膜情況。

卷繞係（xì）統由基體材料（liào）卷繞裝置和移動動力小車等（děng）組成。基體材料卷繞（rào）裝置由（yóu）放卷裝置、鍍膜主輥、收卷裝置和部分導輥以（yǐ）及安裝這些（xiē）輥係的大、小牆板（bǎn）等部件組件組成（chéng）。采用（yòng）司服（fú）電機進行（háng）調速,配合其張力傳感器、來實現鍍膜過程中收放卷卷繞的恒張力自（zì）動控製;係統（tǒng）帶（dài）有基體材料預緊（jǐn）(防鬆（sōng）卷（juàn）)等功能。

真空抽氣係統采用分子泵、國產油擴散泵做為排（pái）氣主泵,保證（zhèng）鍍膜所需的的真空度。

ito薄膜（mó）是什麽 :ITO薄膜的特性及（jí）用途

ITO薄膜是一（yī）種n型半導體材料，具有高的導電率、高的可見光透過率、高的機械（xiè）硬度和良好的化學穩定性。接下來，詳細為你說下ito薄（báo）膜是什麽，ITO薄膜的特（tè）性及用途。

一、ito薄膜是什麽
ITO薄膜是一種n型半導體材料，具有高（gāo）的導電率、高的（de）可見光透過率、高的機械硬度和良好的化學穩（wěn）定性。它是液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、電致發光顯示器（EL/OLED）、觸摸屏（TouchPanel）、太陽能（néng）電池以及其他電子儀表的透明（míng）電極最常用的薄膜材（cái）料。

二、ITO薄膜的特性及（jí）用途
ITO薄膜具有複雜的立（lì）方鐵錳礦結構，其特性主要有：
1）導電性能（néng）好（電阻率可低達10-4Ω·cm），帶隙寬3.5~4.3eV，載流子濃度（1021cm-3）和電子遷移率（15~45cm2V-1s-1）較高（gāo）；
2）在可見光波段透過率，可達85%以上；
3）對紫外線的吸收率較高（gāo），可達85%以上；
4）對紅外線具有反射（shè）性，反射率（lǜ）高於80%；
5）對微波具有衰減性，衰減率可達（dá）85%以上；
6）膜層硬度高，耐磨，耐化學（xué）腐蝕（shí）（氫（qīng）氟酸等除外）；
7）膜層具有（yǒu）很好的酸刻、光（guāng）刻性能，便（biàn）於細微加工（gōng），可以被刻蝕成不（bú）同（tóng）的電圖案。

隨著顯示器（qì）件行業的飛（fēi）速發展，對（duì）ITO薄膜（mó）的產（chǎn）品性能特性提出了新（xīn）的要求。同時ITO薄膜製備技術的深入發展，使顯示（shì）器（qì）件的需（xū）要變成可能。不同性能的ITO薄膜可以在不同顯示（shì）器件中的應用。

塗層示例