中(zhōng)頻離子鍍膜機
中(zhōng)頻離子鍍膜機(jī)
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中頻(pín)離子鍍(dù)膜機-中頻(pín)濺射鍍膜設備


 

中(zhōng)頻濺射離子鍍膜機:
設備集(jí)直流磁控濺射,中(zhōng)頻(pín)濺(jiàn)射和電弧離子蒸發三種技術融合一體,根據不同產品需求,可選配加熱係統、偏壓係統、離化係統等裝置。設備(bèi)配置了多對中頻靶位,能在金屬製品及非金屬表麵鍍製合金膜、化合物膜、多層複合膜等,且利於快(kuài)速沉積更厚更純淨(jìng)的(de)膜層。

 

設備規格:

型號 內腔尺寸 備注

TYL0608

Φ600*H800(mm)

設備可根據客戶要求定製

TYL1009

φ1000*H900(mm)

TYL1112

φ1100*H1250(mm)

TYL1312

φ1300*H1250(mm)

TYL1612

φ1600*H1250(mm)

TYL1912

φ1900*H1250(mm)

TYL1914

φ1900*H1400(mm)

TYL1422

φ1400*H2200(mm)

 

設備優勢:
設備(bèi)所鍍製的膜層具有附著力強、致密性高的優點,對提高(gāo)顏色(sè)一致性及化合物成份的穩定性提供了解決方案,可有效提高產品的耐鹽霧性、耐(nài)磨能(néng)力及產品表麵硬度,滿足了高性能膜層(céng)製備的需求。在產品(pǐn)上表現為(wéi)耐腐蝕性增強、膜層硬度增大彈性模量降低、塗層表麵摩擦係數(shù)更低、塗層顏色光亮度提高。


 

製備塗層:
離子金(jīn)、離子銀、氮化鈦(tài)膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜(mó)、氮化鉻(TiN) 、(TiCN) 、(TiC)、(TiO2) 、(TiAlN)、(CrN)、 (ZrN)、 (CrC)等(děng)金屬(shǔ)化合物膜層。


 

設備功能:
效果:複合膜(功能膜)牢固度高,硬度高。離化(huà)率(lǜ)高、沉(chén)積速率高、磁控濺射低溫穩定(dìng)、顆粒細膩、操作簡單(dān)、產量高等。


 

設備應用:
表帶、高爾夫(fū)球(qiú)具、五金、餐具、手表配件、手機配(pèi)件、眼鏡架、燈飾(shì)、衛浴潔具(jù)等高端製品。


 

鍍(dù)製顏色:
鈦金係(xì)列、鋯金係列、拉絲係列、黑色係列、彩色膜層係列(liè),可實現深黑色、爐內金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶(bǎo)石藍、亮銀色等共十多種顏色。


 

塗層示例:


 

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可根據用戶要求設(shè)計各種規格型號的真空(kōng)鍍膜機。


真空機組及電控係(xì)統也可根據用戶要求進行(háng)設計配置。



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PVD工藝技術采用在真(zhēn)空條件下,通過蒸餾或濺(jiàn)射等(děng)方式在工件表麵沉積各種金屬和非金屬薄膜。



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