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直流磁控濺射鍍膜設備
直流磁控濺射鍍膜機（jī）-真空鍍膜設備
磁控濺射鍍膜設備
用高能粒（lì）子轟擊固體表麵,固（gù）體表麵的原子、分子與入射的高能粒子交換動能後從固體表麵飛濺出來（lái）的現象稱為濺射。濺射（shè）出（chū）來的原子具有一定的能（néng）量,它們可以重新沉積凝聚在固體基（jī）片表麵上形成（chéng）薄（báo）膜,稱為濺射鍍膜。通常是利（lì）用氣（qì）體放（fàng）電產生（shēng）氣體（tǐ）電離其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶材擊出陰極靶材的原子或分子,飛（fēi）向被鍍基片表麵沉積成薄膜。
羞羞视频网站真空科技（jì）：磁控濺射鍍膜機
| 設備型號:磁控濺射真空（kōng）鍍膜設備 | |
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磁控濺射鍍膜機應用於塑料製品、陶瓷、樹（shù）脂、水晶玻璃製品等、工藝（yì）品、塑料手（shǒu）機殼、電子產品、建材等行業 |
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| 該係列設備主要是使用直流(或（huò）中頻)磁控濺（jiàn）射，可適應廣泛鍍膜靶材，如:銅、鈦、鉻、不（bú）繡鋼、鎳等金屬材料 | |
| 可以利用濺射工藝進行鍍膜，可（kě）提高膜層的附著力、重複性、致密度、均勻度等特點 | |
| 設備主要（yào）參數 | |
| 真空室（shì）尺寸: | Φ1000mm 、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm 、 Φ2000mm |
| 真空係統: | 旋片泵+羅茨（cí）泵+擴散泵（bèng）+維持泵(或（huò）選分子泵、深冷泵、深冷係統) |
| 極（jí）限真空: | 6x10-4Pa |
| 工作轉動方式 | 多軸行（háng）星式公（gōng）自轉、變頻調速（可（kě）控可調） |
| 冷卻（què）方式 | 水冷卻循環方式，另配工業冷卻水塔或（huò）工業冷水機（製冷機）或深冷係統。（客（kè）戶提供） |
| 控製方式 | PLC+觸摸屏操作或（huò）計算機控製，手動、半自動（dòng）、自動方式 |
| 供給（gěi）指標 | 氣壓0.5-0.8MPa、水溫≤25℃、水壓≥0.2MPa |
| 報警及保護 | 對泵和靶等缺（quē）水、過流（liú）過壓、斷路等異常情況進行報警、並執行相應保護措施及電氣聯鎖功能 |
| 抽氣時間: | 空載（zǎi）大氣抽至5x10-3Pa,>13min |
| 備注： | 以上設備參數僅（jǐn）做參考，具體（tǐ）均按（àn）客戶實際工藝要求設計定做 |
樣品（pǐn）展示：
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可根（gēn）據用戶要（yào）求設計各種規（guī）格（gé）型號的真空鍍膜機。
真空機組及（jí）電控係（xì）統也可根據（jù）用戶要求進行設計配置。
羞羞视频网站科技國際領先水平的鍍膜應用解決方案：提供設備、材料、加工、技術、項目配套等係統服務
羞羞视频网站真空鍍膜設備有：蒸發鍍膜機（jī）、磁控濺射鍍膜機 、磁控蒸發兩（liǎng）用鍍膜機 、多弧離子鍍膜機 中（zhōng）頻離子鍍膜機 、AF鍍膜機、超硬質塗層鍍膜機、卷繞式鍍膜機、PVD鍍膜線、鍍膜項目配套（tào）總（zǒng）成（chéng）。
PVD工藝技術采用在真空條件下（xià），通過蒸餾或濺射（shè）等方式在工件（jiàn）表麵沉（chén）積各種金屬和非金（jīn）屬薄膜。
羞羞视频网站科技根據產品的特性匹配（pèi）最佳的鍍膜工藝方案。
羞羞视频网站（chéng）真空鍍膜機（jī）祖設備在（zài）行（háng）業優勢特（tè）點所在：專業、誠（chéng）信、可靠。