卷繞式鍍膜設（shè）備 - ITO膜卷繞式真空磁控鍍膜機

羞羞视频网站科（kē）技生產的卷繞式真空鍍膜設備具有高真空獲得（dé）能力,能夠進行（háng）PET、PI等柔性薄膜材料的高精度往複卷繞傳輸,通過人機對話（huà）的形式來實現係統的工作數據顯示、操作與（yǔ）控製,以實（shí）現真空係統的全自動預熱操作,抽氣（qì）和冷泵作業、紅外線加熱等。

設備特點：

本（běn）設備對柔性基體材（cái）料傳動主輥、收卷輥、放卷輥的驅動裝置采用司服電機進行調（diào）速,配合其張力傳感器、來實現薄膜傳輸過程中收放卷（juàn）卷繞的恒張力自動控製。

本設備的鍍膜主（zhǔ）輥配備了-套快（kuài）速高效的真空鍍膜專用加熱裝置,該裝置用於在進行真空鍍膜操作時將（jiāng）鍍膜（mó）主輥表麵（miàn）加（jiā）熱至鍍膜工藝（yì）要求的溫（wēn）度,用以加熱被鍍的基體材料。

本設（shè）備在真（zhēn）空工作室內裝有一套大麵積的低溫冷凍盤管,利用進口低溫深冷係統以抽除真（zhēn）空室水汽。

主機含一套離子源係統,對膜（mó）層進行改性處理,含水冷和充氣係統,均勻性高。

可根據工藝要求配置MF孿和DC陰極係統。

真空室的結（jié）構為一臥（wò）式半圓柱形簡體,真空室整（zhěng）體采用304不鏽鋼製造。

真空（kōng）室正/反麵各配（pèi）有矩形觀察（chá）窗1個,用（yòng）以觀察基體材料卷繞以及鍍膜效果;側麵配有圓形（xíng）觀察（chá）窗可以輔助觀察基體材（cái）料開卷及鍍膜情況。

卷繞係統由基體材料卷繞裝置（zhì）和移動動力小車等組成。基體材料卷繞裝置由放卷裝置、鍍膜主輥、收卷裝置和部（bù）分導輥以及安裝這些（xiē）輥係的大、小牆板等部件組（zǔ）件組成。采用司（sī）服電機進行調速（sù）,配合其張力傳感器、來實現鍍膜過程中收放卷卷繞的恒張力自動控製;係統帶有基體（tǐ）材料預緊(防（fáng）鬆卷)等功能。

真空抽氣係統（tǒng）采用分（fèn）子泵、國產油擴散泵做為排氣主泵,保證鍍膜所需的的真空（kōng）度（dù）。

ito薄膜是什麽 :ITO薄膜的特性及用途

ITO薄膜是一種n型半導體材料，具有高的導電率、高的可見光透過率、高的機（jī）械硬度和（hé）良好的化學穩定性。接下來（lái），詳細為你說下ito薄膜是（shì）什麽，ITO薄膜的特性及用途。

一、ito薄膜是什麽
ITO薄（báo）膜是一種（zhǒng）n型半導體（tǐ）材料，具（jù）有高的導電率、高的可見光透過率（lǜ）、高的機械（xiè）硬度和良好的（de）化學穩定性。它是液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、電致發（fā）光顯示器（EL/OLED）、觸摸屏（TouchPanel）、太陽能電池（chí）以及其他電子儀（yí）表的透明電極最常用的薄膜材料。

二、ITO薄膜的特性及用途
ITO薄（báo）膜具有（yǒu）複雜的立方（fāng）鐵錳礦結構，其特性（xìng）主要有（yǒu）：
1）導電性（xìng）能好（電阻率可低達10-4Ω·cm），帶隙寬3.5~4.3eV，載流子濃度（1021cm-3）和電子遷移率（15~45cm2V-1s-1）較高；
2）在可見（jiàn）光波段透過（guò）率（lǜ），可達85%以上；
3）對紫外線的吸收率較高，可達85%以上；
4）對紅外線具有反射性，反射率高於（yú）80%；
5）對微波具有衰減性，衰減（jiǎn）率可達85%以上（shàng）；
6）膜層硬度高，耐磨，耐化學腐蝕（氫氟酸等除外）；
7）膜（mó）層具有很好的酸刻、光刻性能，便於細微加工，可以被刻蝕（shí）成不同的電圖案。
 

隨著顯示器件行業的飛速發展，對ITO薄膜的產品性能特（tè）性提出了新的（de）要求。同時ITO薄膜製備技術的深入發展，使顯示器件的（de）需要（yào）變成可能。不同性能的ITO薄膜可以在不同顯示器件（jiàn）中的應用。

塗層示例

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可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機（jī）。

真空機組及電控係統也可根據用戶（hù）要求進行設計配置。

羞羞视频网站科技（jì）國（guó）際領先（xiān）水平的鍍膜應用解決方案：提供設（shè）備、材料、加工、技術、項目配套等係統服務

羞羞视频网站真空鍍膜設備有：蒸發鍍膜機、磁控濺射鍍膜機 、磁（cí）控蒸發兩用鍍膜機 、多弧離子鍍膜（mó）機 中（zhōng）頻離（lí）子鍍膜機 、AF鍍膜機、超（chāo）硬質塗層鍍膜機、卷繞式（shì）鍍膜機、PVD鍍膜線、鍍膜項目配套總成。

PVD工藝技術采用在真空條件（jiàn）下，通過（guò）蒸餾或濺射等方式在工件表麵沉積各種金屬和非金屬薄膜。

羞羞视频网站科技根據產品的特性匹配最佳的鍍（dù）膜工藝（yì）方案。

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