多弧離（lí）子鍍膜機-陰極電弧離子鍍（dù）膜設備

（陰極電弧）多弧離子鍍膜的原理是基（jī）於冷陰（yīn）極自持弧光放電等離子體蒸發、電（diàn）離鍍料，結合脈衝偏壓技（jì）術，提高沉積粒子能量和活性，增強膜層（céng）的各項性能。它不僅能在金屬製（zhì）品表麵進行鍍膜而（ér）且能在非（fēi）金屬製（zhì）品表麵上進行鍍（dù）膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層（céng）超硬膜、多元化合（hé）物膜，還可以鍍（dù）氮化鈦摻金膜等。

（陰極電弧）pvd離子鍍膜機是一種高效、無（wú）汙染的真空鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率（lǜ）高、離子能量大（dà）、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。