真空鍍膜設備_磁控濺射鍍膜機（jī）_蒸發鍍膜機_環保電鍍設備-羞羞视频网站真空

蒸發（fā）/磁控兩（liǎng）用鍍膜設備：

磁控/蒸發雙用鍍膜設備：
此設（shè）備利用磁控（kòng）濺射陰較輝光放電將原子（靶材）離（lí）化沉積在基材上（shàng）（物理氣相沉積PVD）和（hé）真空中（zhōng）利用電阻加熱法將金屬（shǔ）絲（sī）熔（róng）融或金屬分子汽化,對基材,手機殼等塑料表麵進行金屬化（huà）,利用特定薄膜塗層實現產品不導（dǎo）電和電磁屏蔽的作用,以滿足現行手機的高等電子產品製造行業標準；

磁控/蒸發雙（shuāng）用鍍膜設備（bèi）：
集中了等離子（zǐ）體處理,高等陰較磁（cí）控濺射,,電阻蒸發鍍膜裝置,大裝載量轉架和自動化控製技術,工作可靠（kào）,重複性一（yī）致性良好,沉積速率高快,附著（zhe）力好（hǎo）,膜層品質細膩等,鍍（dù）製的薄膜致密硬（yìng）度高（gāo）,磨擦係數低,可保持原有工件表（biǎo）麵光潔,具有韌性好（hǎo）,不易破裂脫落。設備實現鍍膜工藝全（quán）自動化控製。在基（jī）材表麵利用真空鍍膜方法進行塗層,具有生產（chǎn）成本低（dī）,產品合格率高,綠色環保等特點,主要適用（yòng）於電腦,手機,高（gāo）等工業（家用）電（diàn）子電器,航空等領域,,可鍍製複合金屬膜,合金膜,透明（半透明）膜,不導電膜（mó）,電磁屏（píng）蔽膜（mó）及特殊膜層等。

設備參（cān）數：

型號（hào）	工作室尺寸直徑X長(mm)	可鍍工件最大（dà）尺寸直徑（mm）	極限壓力(Pa)	空載抽氣時間 (分鍾)	裝機（jī）總功率(KW)	蒸發功率(KW)	真空機組配置
DY-1200	Φ1200X1400	Φ330X1200X6	≤3X10^-3	≤6	53	20	KT-600;ZJ-300;2X-8;2X-70
DY-1400	Φ1400X2000	Φ400X1700X6	≤3X10^-3	≤6	65	20	KT-800;ZJ-600;2X-15;H-150
DY-1600	Φ1600X2000	Φ470X1700X6	≤3X10^-3	≤6	75	30	KT-1000;ZJ-600;2X-30;H-150
DY-1700	Φ1700X2000	Φ500X1700X6	≤3X10^-3	≤6	77	30	KT-1000;ZJ-1200;2X-30;H-150
DY-1800	Φ1800X2000	Φ530X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-1000;ZJ-1200;2X-30;H-150
DY-2000	Φ2000X2000	Φ590X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-1000,ZJ-1200;2X-30;H-150X2
DY-1000	Φ1000X2000	Φ310X1700X6	≤3X10^-3	≤6	53	30	KT-800;ZJ--600.2X15;H-150
DY-1500	Φ1500X2000	Φ480X1700X6	≤3X10^-3	≤6	65	30	KT-800;ZJ-600;2X-15;H-150
DY-1600	Φ1600X2000	Φ520X1700X6	≤3X10^-3	≤6	75	30	KT-800;ZJ-1200;2X-30;H-150
DY-1800	Φ1800X2000	Φ580X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-1000;ZJ-1200;2X-300;H-150
DY-2000	Φ2000X2000	Φ600X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-800X2;ZJ-1200;2X-300;H-150X2