多弧離（lí）子鍍膜（mó）機-陰極（jí）電弧離子鍍膜設備

（陰極電弧）多弧離子鍍膜的原理是基於冷陰極自持弧光放電等（děng）離子體蒸發、電離（lí）鍍料，結合脈衝偏壓技術，提高沉積（jī）粒子能量和活性，增強膜層的（de）各項（xiàng）性能。它不僅能在（zài）金屬（shǔ）製品表（biǎo）麵進行鍍膜而且能在非金屬製品表麵上進行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦（tài）、氮化鋯、氮（dàn）化鉻及鎳、鉻、銅等化合物（wù）膜、多層超硬膜、多（duō）元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。

（陰極電弧）pvd離（lí）子鍍膜機是一種高效、無汙（wū）染的真（zhēn）空鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子（zǐ）能量大、設備（bèi）操作簡單、成本低、生產量大的優點。