真空鍍膜設備_磁控濺射鍍膜機_蒸發鍍膜機_環保電鍍設（shè）備-羞羞视频网站真空

蒸發/磁控兩用鍍膜設備：

磁控/蒸發雙用鍍膜設備：
此設備利用磁（cí）控濺射陰較（jiào）輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相（xiàng）沉（chén）積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融（róng）或金屬分子汽化,對基（jī）材（cái）,手機殼等塑料表麵進行（háng）金屬化,利用（yòng）特定薄膜塗層實現產品不導電和電磁屏蔽的作用,以滿足現行手機的高等電（diàn）子產品製造行業標準；

磁控/蒸發（fā）雙用鍍膜設備：
集中了等離（lí）子體處（chù）理,高（gāo）等陰較磁控濺射,,電阻蒸發鍍膜裝置,大裝載（zǎi）量轉架和自動化控（kòng）製技術,工作可靠,重複（fù）性一致性良好,沉積速率高快,附著力（lì）好,膜層品質（zhì）細膩等,鍍製的薄膜致密（mì）硬度高,磨擦係數低,可（kě）保持原有工件表麵光潔,具有韌性好,不易破（pò）裂脫落。設備實現鍍膜（mó）工藝全自動化控製。在基材表麵利用真空鍍膜方法進行塗層（céng）,具有生產成本低,產品合格率高,綠色環（huán）保等特點,主要適用於（yú）電腦,手機,高等工業（家用）電（diàn）子電器,航空等領域,,可鍍製複合金屬膜,合金膜,透明（半（bàn）透明）膜,不導電膜,電磁屏蔽膜及特殊膜層等。

設備參數：

型號	工作室尺寸直徑X長(mm)	可鍍工件最大尺寸直徑（mm）	極限壓力（lì）(Pa)	空載抽氣時間 (分鍾（zhōng）)	裝機總功率(KW)	蒸發功率(KW)	真空機組配置
DY-1200	Φ1200X1400	Φ330X1200X6	≤3X10^-3	≤6	53	20	KT-600;ZJ-300;2X-8;2X-70
DY-1400	Φ1400X2000	Φ400X1700X6	≤3X10^-3	≤6	65	20	KT-800;ZJ-600;2X-15;H-150
DY-1600	Φ1600X2000	Φ470X1700X6	≤3X10^-3	≤6	75	30	KT-1000;ZJ-600;2X-30;H-150
DY-1700	Φ1700X2000	Φ500X1700X6	≤3X10^-3	≤6	77	30	KT-1000;ZJ-1200;2X-30;H-150
DY-1800	Φ1800X2000	Φ530X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-1000;ZJ-1200;2X-30;H-150
DY-2000	Φ2000X2000	Φ590X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-1000,ZJ-1200;2X-30;H-150X2
DY-1000	Φ1000X2000	Φ310X1700X6	≤3X10^-3	≤6	53	30	KT-800;ZJ--600.2X15;H-150
DY-1500	Φ1500X2000	Φ480X1700X6	≤3X10^-3	≤6	65	30	KT-800;ZJ-600;2X-15;H-150
DY-1600	Φ1600X2000	Φ520X1700X6	≤3X10^-3	≤6	75	30	KT-800;ZJ-1200;2X-30;H-150
DY-1800	Φ1800X2000	Φ580X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-1000;ZJ-1200;2X-300;H-150
DY-2000	Φ2000X2000	Φ600X1700X6	≤3X10^-3	≤6	96.5	30	KT-800X2;ZJ-1200;2X-300;H-150X2