EMI屏蔽真空鍍膜機 _ 磁控濺射鍍膜機 _ EMI屏蔽電鍍設備 _ EMI屏蔽（bì）鍍膜設備-羞羞视频网站真空

功能性真空鍍膜設備 - 磁控濺射鍍（dù）膜機 - EMI屏蔽真空鍍膜機

設備介紹
電磁幹擾(EMI)屏蔽金屬器的應（yīng）用。
其他需要電磁幹擾屏蔽功能的行業
基板材料（liào）。ABS，PC，PC+ABS，塑料等。

EMI屏蔽（bì）膜特性
.薄膜（mó）厚度：1.5 ~ 3微米，取決於要求。
.薄膜電阻。(歐姆)優於0.5Ω
.附著力：3M810膠帶>5B
.EMI 屏（píng）蔽膜的塗覆工藝
.直流濺射不鏽鋼
.熱蒸發法沉積銅
.直流濺射不鏽鋼（gāng），完全覆（fù）蓋在Cu膜層上。

功能型（xíng）鍍膜設備濺射蒸發鍍膜（mó）機是專門為EMI屏蔽薄膜沉積而設計（jì）的，廣泛用（yòng）於（yú）電信設備、計（jì）算機、筆記本電腦、消費電子、家用電器、手機外殼（ké）、筆記本電腦外殼、雷達測速（sù）儀器、汽車（chē）視頻部件、航空航天、軍事項目。

設備特點
1) 雙門結構和（hé）快（kuài）速的泵送速度，實現高生產（chǎn）率（lǜ）
2）用戶友好的觸摸屏麵板和PLC控製
3)用戶友好的軟（ruǎn）件（jiàn）程序設計，生產穩定，質量高。
4) 濺射靶材（cái）利用（yòng）率高，確保生產成本（běn）低。
5)良好的均勻性&優秀的附著力
6)先進（jìn）的設（shè）計理念（niàn），以更（gèng）好的（de）性能來提高生產效（xiào）率和質量率。
7) 離子源裝置用於等離子體清洗和表麵活性處理，提高附著力。
8) 通過Polycold-水蒸氣低溫泵，高真空抽（chōu）氣時間縮短25%至75%。在加工過程中降低水蒸氣分（fèn）壓，以獲得更高的薄膜質量（liàng），更（gèng）好的附著力和更多的可重複的沉（chén）積。

羞羞视频网站真空科技：磁控濺射鍍膜機

設備主要參數
真空室尺寸:	Φ1000mm 、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm 、 Φ2000mm
真空係統:	旋片泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選分子泵、深冷泵、深冷係統)
極限真空:	6x10^-4Pa
工作轉動方式	多軸行星式（shì）公自轉、變頻調速（可控可調）
冷卻（què）方式（shì）	水冷卻循環方式，另（lìng）配工業冷卻水塔或工業冷水機（製冷機）或（huò）深冷係統。（客戶提供）
控製方式	PLC+觸摸屏操（cāo）作或計算機控製（zhì），手動、半自動、自動方式
供給指標	氣壓0.5-0.8MPa、水溫≤25℃、水壓≥0.2MPa
報警及保護	對泵和（hé）靶等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警、並執行相（xiàng）應保護措施及（jí）電氣聯（lián）鎖功能
抽（chōu）氣時間::	空載大氣抽至5x10^-3Pa,>13min
備（bèi）注：	以上設備參數僅做參考，具體均按客戶實際工藝要求設計定做