真空鍍膜時為什麽要用到高(gāo)純氣體

發布時間:2023-03-03瀏覽量:6954

        在(zài)真空離子鍍(dù)膜設備工作中,所選用不同氣體(tǐ)所生產出(chū)來的,液態氣體色(sè)澤也會不一樣,氬氣一般用作創造鍍膜的環境鍍鈦和鉻時,工業氣體充入(rù)氮(dàn)氣可生產出銀色和黃(huáng)色的產品而想(xiǎng)要生產出(chū)黑色或灰色(sè)的產品,則需要加(jiā)入乙炔氣體加入氧氣(qì)則生產藍色的(de)產品。除(chú)了氣體外所生產出的產品顏色還受壓力、溫(wēn)度、時間等條(tiáo)件影響。


 

真空電鍍蒸發(fā)是氣體利用的什麽原(yuán)理?
在(zài)高真空度的條(tiáo)件下(xià),高純度的鍍層金屬(如鋁)在高溫下蒸發後(hòu)會自由地飛散開並沉降在工件表麵,形成(chéng)鍍層。氬氣為保(bǎo)護性氣體,防止氧化(huà)反應影響鍍層(céng)質量。


 

氬氣在(zài)電鍍過程中有何用?
氬氣不參與反應,隻是(shì)增加氣壓,改(gǎi)善鍍膜時(shí)靶的放電條件,氬氣不是用於鍍膜,主要用於創造鍍膜的環境。氮氣(qì)和氬氣都是惰性(xìng)氣體,衝進去以後,一 可以排除氧氣,防止(zhǐ)氧化,二更具氮氣和氬氣在(zài)擴散泵內(nèi)的(de)含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變鍍膜出來產品的色彩.


 

真空鍍膜行業(yè)中,氬氣的流量大小具體如何(hé)控製?
如果是說鍍膜時(shí)為了調節壓力使用(yòng)的氣體(tǐ) 個人認(rèn)為如下:氬氣如果隻是調節壓力,一次壓可以不計,但是(shì)二(èr)次(cì)壓要小於0.5個大氣壓。氮氣也是,主要是因為如果大了,會導致真空倉內的壓力變化(huà)太劇烈,導致誤差(chà)。如果是使用離子源,那麽氬氣入氣量不(bú)宜過(guò)大,大了導致離子量過大,燒壞(huài)部件。壓力和上邊沒什麽差別。


 

         任何固體材(cái)料在大氣環境下都會溶解和吸附一些氣體,當材料置於真空狀態時就會因為脫附(fù)、解析(xī)而出氣。出氣的速率(lǜ)與材料中的氣體含量成正比。不同的材料解析的氣體成分及解析的溫度及時間是不同的。


 

         各種泵(bèng)對不同成分的氣體抽氣速率也是不一樣的(de)。抽(chōu)真空(kōng)時,首先抽走的是容器中的(de)大氣(這部份氣體很快被抽走,10-1Pa時(shí)爐內氣體(tǐ)基本(běn)抽(chōu)盡),然後是材料表麵解吸的氣體、材料內部向表麵擴散出來(lái)的氣體,以及通過器壁滲透到真空中的氣體.因此在貨品進入爐內之後,都要進行保溫除氣,因為貨品在進爐前會吸附一些雜質氣體,我們(men)要通(tōng)過適當的加熱,讓這(zhè)些氣(qì)體解析脫附貨品的表麵。以不鏽鋼為例,除了在它表麵吸附的氣(qì)體之外,在不斷的加熱保溫過程中(zhōng)鋼內部還會析出一些氣體,這些氣體的存在往往對薄膜的純(chún)度和顏色有(yǒu)較大的影響,對膜層附著力影響也很(hěn)大。


 

        因此真空鍍(dù)膜機鍍膜時(shí),膜層的好壞,氣體啟著關鍵(jiàn)性的作用,是(shì)鍍膜(mó)環(huán)節不可(kě)或缺的一步。


PVD鍍膜塗層常用置(zhì)配::

彩色係膜(mó)層和常規色膜層最大的區別就是C值和H值,所以可以說,黑色也是彩色係膜層。

鋯+氮氣:黃綠調金黃色

鋯+甲(jiǎ)烷:深淺黑色(sè)

鋯+氧氣:白色、透明(míng)膜

鋯+氮氣+甲烷:金色、仿玫(méi)瑰金

鉻+甲烷:深淺黑色

鉻+氮氣:淺黑色

鉻+氮氣+甲烷:銀灰色

鉻(gè)+氧氣:輕黃色、紫(zǐ)色、綠色

SUS+氧氣(qì):紫色

SUS+氮氣:藍色

SUS+甲烷:亮黑色(sè)

SUS+甲烷+氮氣:藍黑色

矽+氮氣:黑色

矽(guī)+氧氣:混(hún)濁白、透明膜

矽+甲烷:黃色、綠色、藍色、黑色(靶材(cái)純度高於99%僅能調黑色)

鈦+氧氣:光學膜七彩截色,不多介紹都懂。

鈦+甲烷:深(shēn)淺黑色( DLC製備不能達標)

鈦+氮氣:仿(fǎng)金色、黃銅色、紫色、紅色

鈦+氮(dàn)氣+甲烷:仿玫瑰(guī)金、黑綠(lǜ)色、複古(gǔ)黃、棕色(sè)、紫(zǐ)色

鎢+氮氣:棕(zōng)黃(huáng)色

鎢+甲烷:深淺黑色

鎢+氧氣:紫色,鮮黃色,棕色,藍色

以上僅裝(zhuāng)飾薄膜常用材料及其常用氣體(tǐ),通常甲烷和乙炔都可互替,但涉及部分顏色甲烷效(xiào)果更好。除以上常用材料外,


 

金屬靶材還有鎳(niè)、鋁、鉭、鉿(hā)、錳、銅、鋅、銦、錫(xī)、等,均有在鍍膜中使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁(lǚ)、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩錸、鎢鉬等等。


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