真空鍍膜設備運用技術已經成為了（le）人們生活中不可或缺的一部（bù）分，影（yǐng）響著人民的生活方式，如日常生活中餐具、家居、建材、電子產品、包（bāo）裝等表麵都鍍上了一層（céng）膜，即改（gǎi）變了產品的性能，也改變為（wéi）其美觀度。

        隨著社（shè）會的（de）進步，真空（kōng）鍍膜機技術（shù）也是日新月異，光學鍍膜技術、卷繞鍍膜技術、裝（zhuāng）飾鍍膜技術、磁控鍍膜（mó）技術，早已大量的投入到（dào）市場運用，來滿足市場目前需求（qiú）。很多行業以外的人（rén）心中都有一個疑惑，就是真空鍍膜機具體是哪些結（jié）構組成的呢（ne）?下麵匯成真空小編為大家整理了這方麵的資料，供大家參（cān）考和學（xué）習。

        一、真空室，塗層設備主要有連（lián）續塗層生產線及單室塗層機兩種形式，不鏽鋼材料製造、氬弧焊接、表麵進行化學拋光處理，真空室（shì）組件上焊有各種規格的法蘭接口。

        二、真空獲（huò）得部分，在真空技術中，真空獲得部分（fèn）是重要（yào）組成部分。真空的獲得不是一種真空（kōng）設備和方（fāng）法所能達到的，必須將幾種泵聯合使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵係統等。 

        三、真空測量部分，真空係統（tǒng）的真空測（cè）量部分，就是（shì）要（yào）對真空室內的壓（yā）強進行測（cè）量。像真空泵一樣，沒有（yǒu）一種真空計能測量整個真空範（fàn）圍，人們於是按不同的原理和要求製成了許多種類（lèi）的（de）真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等等。 

        四、電源供給部分，靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈衝電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等

        五、工藝氣（qì）體輸入（rù）係統，工（gōng）藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應，經氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計（jì）、電磁（cí）閥、壓（yā）電閥，然後通入真空室。這（zhè）種氣體輸入（rù）係統的優點是，管路簡（jiǎn）捷、明快，維修或更換氣瓶容（róng）易。各塗層機之間互不影響。也有多台塗層機共用一組氣瓶（píng）的情（qíng）況，這種情況在一些規模較（jiào）大的塗（tú）層車間可能有機會看到。它的好處是，減少氣瓶占（zhàn）用量，統一規劃、統一布局。缺點（diǎn）是，由於接頭增多，使漏氣機會增加。而且，各塗層機之間會互相幹擾（rǎo），一台塗層機（jī）的管路漏氣，有可能（néng）會影（yǐng）響（xiǎng）到其他塗層機的產品質量。此外，更換氣（qì）瓶時，必須保證（zhèng）所有機台都處於非用氣狀態。

        六、機械傳動部分，塗層要（yào）求周邊必（bì）須厚度均（jun1）勻一（yī）致，因此，在塗層（céng）過程中須有三個轉動量才能滿足要求。即在要求大工件台轉動(I)的同時，小的工件承載台也轉動( II),並且工件本身還能同時（shí）自轉(III)。在（zài）機械設計上，一般是在大工件轉盤底部中央（yāng）為一大的主動齒輪，周（zhōu）圍是一（yī）些小的星行輪與之齧合，如果（guǒ）要實現（xiàn）產品自轉的話，一般用撥叉撥動工件自轉。

 
        七、加（jiā）熱（rè）及測（cè）溫部分塗層設備一般有不同位置的加（jiā）熱器，用熱電偶測控溫度。但是（shì），由於熱電偶裝夾的位置與工（gōng）件位置不同，溫度讀（dú）數不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫度，有很（hěn）多方法，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶（ǒu）計。 

        八、離子蒸發及（jí）濺射源，多（duō）弧鍍的蒸發源一般（bān）為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有（yǒu）磁鐵，通過前後移動磁鐵，改變（biàn）磁場強度，可調整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫（wēn）度，要給靶座不斷通入冷卻水（shuǐ）。為了保證靶與靶座之間的高導電（diàn）、導熱性，還可以在靶與靶座之間加錫（xī）墊片。磁控濺射鍍（dù）膜一般（bān）采用長方形或圓柱形濺射陰極。 

        九、水冷係統，一般由冷水塔，冰水機，水泵等組成

        真空鍍膜機必須由（yóu）以上九個部件組成，每（měi）一（yī）個部件在（zài）機器裏麵都啟動到了（le）至關重要的作用，缺一不可。