剛了（le）解（jiě）或（huò）者剛（gāng）接觸的真空鍍膜機行業時，很多人好奇，為啥蒸發真空鍍膜設備蒸鍍材料必須要在真（zhēn）空狀態下，而且真（zhēn）空鍍還（hái）要達到一定的標準，下麵詳細介紹：

         在常壓下蒸鍍膜（mó）料（liào）無法形成理想的薄膜，事實（shí）上（shàng），如在壓（yā）力不夠低 ( 或者說真空（kōng）度不夠高 ) 的情況下同樣得不（bú）到好的結果， 比如（rú）在10 2托數量（liàng）級下蒸鍍鋁，得到的膜層（céng）不但（dàn）不光亮，甚至發灰（huī）、發黑，而（ér）且機械強度極差，用鬆（sōng）鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁（lǚ）層破壞。

        蒸鍍必須在一定的真空（kōng）條件下進行，這是因為：

        1、
        較高的真空度（dù）可以保證汽化分子的平（píng）均自由程大於蒸發源（yuán）到基底的距離。由於氣（qì）體分（fèn）子的熱運動，分（fèn）子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運動的速度相當的高 ( 可達（dá）每秒幾（jǐ）百（bǎi）米 ) ，但是由於（yú）它（tā）在前進的過程（chéng）中要與其它分子多次碰撞， 一個分子在兩次連續碰撞之間所（suǒ）走的（de）距離被稱為它的自由程， 而大量分子自由程的統計平均值就（jiù）被稱為分子的平均自由程。

       由於氣體壓強與（yǔ）單位體積的分子（zǐ）數成正比， 因此平均自由程與氣（qì）體的壓強亦成正比。在真（zhēn）空澱積薄膜過程中，當澱積距離大於分子的平均自由（yóu）程時被稱為低真空澱積， 而當澱積距（jù）離小於分子的平均自由程時被稱為高真空澱積。在高（gāo）真空澱積時（shí），蒸發原子 ( 或分子 ) 與殘（cán）餘氣體分子間的（de）碰撞可以忽略不計，因此汽化原子是沿直線飛向基片的，這（zhè）樣保持較大動能到達基片的汽（qì）化（huà）原子即可以在基片上凝結成較牢固的（de）膜層。在低真空澱積（jī）時，由於碰（pèng）撞的結果會使汽化原子的速度和方向（xiàng）都發生變化，甚至可（kě）能在空間（jiān）生成蒸（zhēng）汽原子集合體—其道（dào）理與水蒸汽在大氣中生（shēng）成霧相似。

        2、
        在較高的真空度下可以減少殘餘氣體的汙染在（zài）真（zhēn）空度不太高的情況下， 真空室內含有眾多的殘餘氣體分子（zǐ）( 氧、氮、水及碳氫化合物等 ) ，它們能給薄膜的鍍（dù）製帶來極大的危害。它們與汽化（huà）的膜料分子碰撞（zhuàng）使（shǐ）平均自由程變短；它們與正（zhèng）在成膜的表麵碰撞並與（yǔ）之反應； 它們隱藏在已形成的（de）薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與（yǔ）蒸發（fā）源高溫化（huà）合減（jiǎn）少（shǎo）其使（shǐ）用壽命；它們在已蒸發的膜料（liào）表麵上形成氧化層（céng）使蒸（zhēng）鍍（dù）過程不能順利進行。

 
        因（yīn）此（cǐ），蒸發真空（kōng）鍍膜（mó）機要鍍製膜層，必（bì）須要真空（kōng）狀態下才能進（jìn）行鍍膜，膜層才會牢固，才不會有汙染物等。