真空鍍膜設備廠家

高能脈衝（chōng）磁控濺射（HiPIMS）
技術特點：

高能脈衝磁控濺射技（jì）術是利用較高的脈衝峰值功率和較低的脈衝占空比來產生高濺射（shè）金屬離化率（lǜ）的一種磁控濺射技術。將高能衝擊磁控濺射與高壓脈衝偏壓技術複合，利用（yòng）其高離化率和淹沒（méi）性的特（tè）點（diǎn），通過成膜（mó）過程（chéng）中入射粒子能量與分布的有效操控，實現高膜基結合力、高品質、高均勻性薄膜的製備。該裝備係統將在衛星通訊、等離子物理、新材料等領域具有重（chóng）要的工業應用價值。

領域：
工模具高溫塗層：汽車、航空航（háng）天、軍（jun1）事等先進製造行業應用
稀（xī）土（tǔ）鋁耐蝕薄膜：NdFeB磁鐵行業環保（bǎo）塗層（céng）應用
太陽能薄膜：光伏（fú）發電及新能源領（lǐng）域應用
生物工程薄膜：生物醫用領域應用