真空鍍膜設備廠家

PACVD 又叫 PECVD （離子強化氣（qì）相沉（chén）積）

PACVD 離子加強化學氣相沉積是在高度真空（kōng）環境，溫度低於 200 ℃的情況下，沉積極度光滑，粘著性能好的無定形金剛石硬質合（hé）金塗層。相（xiàng）對 PVD 工藝， PaCVD 工藝應用深鍍電源，無需陰極靶材，同時工件在爐膛中無需旋轉，該工藝為幹淨無汙染，可靠，和多性能的塗層工藝。

PACVD 離子加（jiā）強化學氣相沉積是在高度（dù）真空環境，溫度低於 200 ℃的情況下，沉積極度光滑，粘著（zhe）性能（néng）好的無（wú）定形金剛石硬（yìng）質合金塗層。